반도체 세정을 위한 초순수 제조 장치의 프로세서 플로우

최근 몇 년 동안, 반도체의 전자 산업에 있는 대부분은 전자 산업 계정 중국의 과학과 기술 급격한 발달은 또한 중요한 자리를 차지합니다, 반도체 세정 초순수 제조 장치 유출 품질이 안정적이고 장비 작동이 믿을 만합니다.

반도체 세정을 위한 초순수 제조 장치에 대한 프로세스 설명

반도체 세정을 위한 초순수의 수질은 또한 엄격한 요구사항을 가지고 있어야 하고 장비가 안정하게 작동할 수 있습니다. 생수는 날것 물 펌프에 의해 압력을 받아서, 물이 물에서 녹과 다른 유기 물질을 제거하기 위해 중요한 프리트리트먼트 시스템에 들어가는 후, 잔여 염소의 약간의 색깔을 제거하기 위해 이차적 전처리 장비에 들어가고 그리고 나서 전처리의 3 단계 뒤에, 물의 견고성을 제거하기 위해, 보안 필터가 다시 물을 정화하고, 물에서 초과하는 불순물을 제거하기 위해 그리고 나서 역삼투와 EDI를 통과하고, 더욱 물을 처리하기 위해 마침내 미세 기공 필터를 통과합니다. 물이 물 요구량을 충족시키게 하세요.

반도체 산업에서 초순수에 대한 기준

반도체 산업은 중국의 전자 산업의 관련 규격을 따르고, 또한 약간의 외국 물 품질 표준을 충족하여야 합니다. 요즈음, 많은 물 처리 제조들은 그 기준에 부합하는데 실패했고 우리의 초순수 제조 장치의 유출 품질이 이러한 기준에 부합할 수 있고 수질이 안정적이고 그것이 2차 오염을 유발하지 않을 것입니다.

반도체 세정을 위한 초순수 제조 장치는 최신 기술을 채택하며, 그것이 방치되 특성을 실현할 수 있고, 장비가 협역을 점령하고, 자동화 정도가 높고, 수질이 18조 2000억까지, 안정적이고 초순수 제조 장치의 폐수 회수율이 높고, 90% 이상까지 최고 80%입니다.